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>> 研磨液供应系统
研磨液供应系统
CMP Slurry Surpply System
主要优势
高效的Chemical稳定供应的机构设计
先进的Chemical及DIW适当比例的控制技术
先进的比例Chemical定量供应的控制技术
特性和规格
适用2-12英寸晶片
半标准操作系统
Etherment,rs232设备通讯协议
点击数：1654 录入时间：2021/9/8 【
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