掩膜测量系统

 Mask Solutions

 MueTec2000

MueTec2000包含MueTec50-100所有的功能。
拥有自动化的XY扫描平台和功能强大图像识别软件。通过编程，可以很方便的实现探测和测量过程的自动化
NanoStar软件可以提供简易快速的测量设置、数据统计、图像增强，以及功能强大的测试软件包。
对于单一材质样品,可以实现全自动精确测量。
标准配置中包含双重隔振底盘，灯台，莱卡（Leica）激光自动聚焦系统和自动可旋转摄像头。