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   研磨液供应系统

   CMP Slurry Surpply  System

       

 主要优势
 高效的Chemical稳定供应的机构设计
 先进的Chemical及DIW适当比例的控制技术
 先进的比例Chemical定量供应的控制技术
 特性和规格
 适用2-12英寸晶片
 半标准操作系统 
 Etherment,rs232设备通讯协议
 

点击数:276  录入时间:2021/9/8 【打印此页】 【返回
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