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 半导体制造/WAFER FAB >> Retainer Ring

 

  CMP研磨工艺使用之Retainer Ring ( 8”& 12” IC fab )

  应用 : 8” &12’ IC fab Applied Material & Ebara CMP tool's CMP key parts

 

                                               

 

 

 

 

 

 

点击数:780  录入时间:2015/7/16 【打印此页】 【返回
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